Puolijohdejätti Intel kertoi sijoitajille suunnatussa Investor Day -pääomasijoituspäivillä suunnitelmistaan pysyä puolijohdepiirien tuotantoteknologiassa mukana. Intel on pystynyt tuomaan uusia prosesseja markkinoille tasaiseen tahtiin, mutta viime vuosina yhtiöllä on ollut suuria ongelmia teknologian kehityksessä.
Julkaistun roadmapin perusteella Intel aikoo julkaista tämän vuoden aikana 10 nanometrin prosessilla valmistettuja prosessoreja ja muita mikropiirejä ja tuoda kahtena seuraavana vuonna tarjolle päivitettyjä versioita prosessista. Vuonna 2020 Intel aikoo julkaista 10 nm+ -prosessin ja seuraavana vuorossa on tulossa 10 nm++ -prosessi.
Samaan aikaan Intel aikoo investoida 7 nanometrin prosesseihin, joita on niin ikään tulossa vuosien saatossa kolme kappaletta. Intel aikoo itse asiassa lanseerata 7 nanometrin prosessinsa vuonna 2021, jolloin yhtiöltä on tulossa myös 10 nm++ -prosessi. Tavoitteena 7 nanometrin prosessissa on transistoritiheyden voimakas kasvattaminen Mooren lain mukaisesti. Intel aikoo myös kaupallistaa uuden sukupolven Foveros-paketointiteknologian 7 nanometrin prosessin yhteydessä.
Julkaistun roadmapin perusteella Intel aikoo julkaista tämän vuoden aikana 10 nanometrin prosessilla valmistettuja prosessoreja ja muita mikropiirejä ja tuoda kahtena seuraavana vuonna tarjolle päivitettyjä versioita prosessista. Vuonna 2020 Intel aikoo julkaista 10 nm+ -prosessin ja seuraavana vuorossa on tulossa 10 nm++ -prosessi.
Samaan aikaan Intel aikoo investoida 7 nanometrin prosesseihin, joita on niin ikään tulossa vuosien saatossa kolme kappaletta. Intel aikoo itse asiassa lanseerata 7 nanometrin prosessinsa vuonna 2021, jolloin yhtiöltä on tulossa myös 10 nm++ -prosessi. Tavoitteena 7 nanometrin prosessissa on transistoritiheyden voimakas kasvattaminen Mooren lain mukaisesti. Intel aikoo myös kaupallistaa uuden sukupolven Foveros-paketointiteknologian 7 nanometrin prosessin yhteydessä.
Kommentoi uutista
Kirjaudu sisään