TSMC on kertonut aloittavansa parhaillaan massatuotantoa 16 nanometrin FinFET-tekniikalla ja tuloja sillä valmistetuista piireistä alkaa kertyä tämän vuoden lopulla. Tuotannon ylösajon kerrotaan olevan nopeampi kuin viime vuonna 20 nanometrin prosessin kohdalla.
Nopea ylösajo viittaa siihen, että TSMC on onnistunut saamaan uudelle prosessilleen isoja asiakkaita. Viime vuonna Apple kahmaisi ison osan tilauksista A8-suorittimella. On kuitenkin mahdotonta sanoa jatkaako Apple tänä vuonna TSMC:n asiakkaana, mutta nopea ylösajo viittaisi kuitenkin siihen. TSMC uskoo saavuttavansa suurimman osan 16/14 nanometrin tilauksista ensi vuonnakin.
TSMC:n tärkein kilpailija puolijohdetuotannossa on Samsung.
Edistyneempiä 10 ja 7 nanometrin tuotantotekniikoita TSMC kommentoi toteamalla niiden kehittyvän aikataulussa. Ensi vuoden lopulla TSMC aikoo käynnistää massatuotannon 10 nanometrin tekniikalla, jolloin ensimmäiset siihen perustuvia piirejä käyttävät laitteet tulevat kauppoihin vuoden 2017 aikana. TSMC:n mukaan 10 nanometrin tekniikka kasvattaa transistoritiheyden 16 nanometriin verrattuna yli kaksinkertaiseksi.
Intel kertoi tällä viikolla, että se joutuu viivästyttämään oman 10 nanometrin prosessin käyttöönottoa vuoden 2017 jälkimmäiselle puoliskolle.
Nopea ylösajo viittaa siihen, että TSMC on onnistunut saamaan uudelle prosessilleen isoja asiakkaita. Viime vuonna Apple kahmaisi ison osan tilauksista A8-suorittimella. On kuitenkin mahdotonta sanoa jatkaako Apple tänä vuonna TSMC:n asiakkaana, mutta nopea ylösajo viittaisi kuitenkin siihen. TSMC uskoo saavuttavansa suurimman osan 16/14 nanometrin tilauksista ensi vuonnakin.
TSMC:n tärkein kilpailija puolijohdetuotannossa on Samsung.
Edistyneempiä 10 ja 7 nanometrin tuotantotekniikoita TSMC kommentoi toteamalla niiden kehittyvän aikataulussa. Ensi vuoden lopulla TSMC aikoo käynnistää massatuotannon 10 nanometrin tekniikalla, jolloin ensimmäiset siihen perustuvia piirejä käyttävät laitteet tulevat kauppoihin vuoden 2017 aikana. TSMC:n mukaan 10 nanometrin tekniikka kasvattaa transistoritiheyden 16 nanometriin verrattuna yli kaksinkertaiseksi.
Intel kertoi tällä viikolla, että se joutuu viivästyttämään oman 10 nanometrin prosessin käyttöönottoa vuoden 2017 jälkimmäiselle puoliskolle.
Kommentoi uutista
Kirjaudu sisään